石灰石濕法脫硫工藝中石膏水分偏大原因

在石灰石濕法脫硫工藝中，石膏濾餅水分偏大是影響脫硫系統(tǒng)效率、石膏品質(zhì)及后續(xù)處置的常見問(wèn)題，其原因可結(jié)合脫硫反應(yīng)工況、真空帶式過(guò)濾機(jī)運(yùn)行參數(shù)、物料特性、輔助系統(tǒng)狀態(tài)四個(gè)核心環(huán)節(jié)總結(jié)，具體如下：

一、 脫硫反應(yīng)與料漿制備環(huán)節(jié)問(wèn)題

1.吸收塔內(nèi)反應(yīng)不完全

石灰石漿液品質(zhì)不佳（純度低、粒徑過(guò)大）或石灰石供漿量不足，會(huì)導(dǎo)致吸收塔內(nèi) CaCO?與 SO?反應(yīng)不充分，石膏晶體生長(zhǎng)不良，形成細(xì)晶石膏。細(xì)晶石膏顆粒粒徑小、比表面積大，過(guò)濾時(shí)易堵塞濾布孔隙，降低脫水效率，最終造成濾餅水分偏高。

同時(shí)，吸收塔內(nèi) pH 值控制不當(dāng)（過(guò)低＜5.0 或過(guò)高＞6.0），會(huì)抑制石膏晶體正常生長(zhǎng)，產(chǎn)生大量針狀或絮狀細(xì)晶，進(jìn)一步加劇脫水困難。

2.料漿含固量與雜質(zhì)超標(biāo)

吸收塔石膏漿液含固量過(guò)低（正常應(yīng)控制在 10%–15%），料漿流動(dòng)性過(guò)強(qiáng)，真空過(guò)濾時(shí)無(wú)法快速形成致密濾餅，導(dǎo)致水分難以有效脫除；

若煙氣中粉塵、重金屬離子（如 Cl?、Mg2?）含量過(guò)高，或脫硫系統(tǒng)補(bǔ)水中懸浮物超標(biāo)，這些雜質(zhì)會(huì)吸附在石膏晶體表面，破壞濾餅孔隙結(jié)構(gòu)，阻礙水分滲透。

二、 真空帶式過(guò)濾機(jī)運(yùn)行參數(shù)異常

這是導(dǎo)致石膏水分偏大的直接原因，與設(shè)備核心運(yùn)行狀態(tài)密切相關(guān)：

1.真空度不足

真空泵故障（如葉輪磨損、密封泄漏）、真空管路堵塞或漏氣，會(huì)導(dǎo)致過(guò)濾機(jī)真空度低于工藝要求（正常應(yīng)≥0.04–0.06MPa），無(wú)法提供足夠的吸力將濾餅中的水分抽出。

此外，濾餅厚度過(guò)厚（超過(guò) 25–30mm），真空吸力難以穿透濾餅深層，會(huì)出現(xiàn) “表層干、內(nèi)層濕” 的情況。

2.濾布選型或運(yùn)行狀態(tài)不佳

濾布孔徑不匹配：孔徑過(guò)大易漏漿，孔徑過(guò)小則堵塞嚴(yán)重，均會(huì)降低脫水效率；

濾布堵塞或老化：漿液中細(xì)晶石膏、粉塵等雜質(zhì)附著在濾布表面，未及時(shí)清洗或清洗不徹底，導(dǎo)致濾布透水率下降；濾布使用時(shí)間過(guò)長(zhǎng)、出現(xiàn)破損或變形，也會(huì)影響脫水效果；

濾布走偏或張緊度不足：濾布與真空盒密封不嚴(yán)，產(chǎn)生 “真空泄漏”，無(wú)法形成有效負(fù)壓區(qū)。

3.濾餅沖洗與卸料參數(shù)不當(dāng)

沖洗水壓力過(guò)低或水量不足，無(wú)法有效沖掉濾布表面的殘留雜質(zhì)，加劇濾布堵塞；

卸料刮刀磨損嚴(yán)重，無(wú)法徹底刮除濾餅，殘留濾餅會(huì)堵塞下一循環(huán)的濾布孔隙；

過(guò)濾機(jī)皮帶運(yùn)行速度過(guò)快，濾餅在真空區(qū)停留時(shí)間不足，水分未充分脫除就被卸料。

三、 石膏漿液預(yù)處理環(huán)節(jié)問(wèn)題

1.旋流器分級(jí)效果差

石膏漿液進(jìn)入過(guò)濾機(jī)前，需經(jīng)旋流器進(jìn)行濃縮分級(jí)，若旋流器進(jìn)料壓力不足、底流口堵塞或溢流管故障，會(huì)導(dǎo)致分級(jí)后的底流漿液含固量偏低、細(xì)晶含量過(guò)高，直接增加過(guò)濾機(jī)的脫水負(fù)荷。

2.漿液溫度過(guò)高

吸收塔出口石膏漿液溫度過(guò)高（超過(guò) 55℃），會(huì)降低真空泵的真空抽吸效率，同時(shí)高溫會(huì)使?jié){液黏度增大，水分不易從濾餅中分離。

四、 輔助系統(tǒng)與運(yùn)行管理問(wèn)題

1.沖洗水水質(zhì)與壓力不達(dá)標(biāo)

沖洗水硬度高，易在濾布表面結(jié)垢；沖洗水壓力低于 0.3MPa，無(wú)法有效清理濾布孔隙，長(zhǎng)期積累會(huì)導(dǎo)致濾布透水能力下降。

2.工藝操作與維護(hù)不到位

未定期對(duì)過(guò)濾機(jī)真空盒、管路進(jìn)行清理，導(dǎo)致積漿堵塞；

未按規(guī)程定期檢測(cè)石膏晶體粒徑分布、漿液 pH 值、含固量等關(guān)鍵參數(shù)，無(wú)法及時(shí)調(diào)整工況，導(dǎo)致細(xì)晶石膏持續(xù)產(chǎn)生。